Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Tallennettuna:
| Päätekijät: | , |
|---|---|
| Aineistotyyppi: | Kirja |
| Julkaistu: |
НБ СевКавГТУ
|
| Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
| Yhteenveto: | Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. |
|---|