Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Shranjeno v:
| Главные авторы: | , |
|---|---|
| Format: | Knjiga |
| Izdano: |
НБ СевКавГТУ
|
| Oznake: |
Označite
Brez oznak, prvi označite!
|
| Izvleček: | Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. |
|---|