Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Sparad:
| Huvudupphovsmän: | , |
|---|---|
| Materialtyp: | Bok |
| Publicerad: |
НБ СевКавГТУ
|
| Taggar: |
Lägg till en tagg
Inga taggar, Lägg till första taggen!
|
| Sammanfattning: | Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. |
|---|