Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Сохранить в:
| Главные авторы: | , |
|---|---|
| 格式: | 图书 |
| 出版: |
НБ СевКавГТУ
|
| 标签: |
添加标签
没有标签, 成为第一个标记此记录!
|
| 总结: | Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. |
|---|