Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Киреев В. Ю., Столяров А. А. |
---|---|
التنسيق: | كتاب |
منشور في: |
НБ СевКавГТУ
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Химическое осаждение из растворов
بواسطة: Вассерман И. М. -
Рост алмаза и графита из газовой фазы
بواسطة: Дерягин Б. В., وآخرون -
Получение покрытий. Методы физического и химического осаждения из газовой фазы учебное пособие
بواسطة: Чернышова О. В.
منشور في: (2023) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
بواسطة: Алтахов, А. С.
منشور في: (2018) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
بواسطة: Алтахов, А. С.
منشور في: (2018)