Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Guardat en:
Autors principals: | Киреев В. Ю., Столяров А. А. |
---|---|
Format: | Llibre |
Publicat: |
НБ СевКавГТУ
|
Etiquetes: |
Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
|
Ítems similars
-
Химическое осаждение из растворов
per: Вассерман И. М. -
Рост алмаза и графита из газовой фазы
per: Дерягин Б. В., et al. -
Получение покрытий. Методы физического и химического осаждения из газовой фазы учебное пособие
per: Чернышова О. В.
Publicat: (2023) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
per: Алтахов, А. С.
Publicat: (2018) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
per: Алтахов, А. С.
Publicat: (2018)