Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Uloženo v:
Hlavní autoři: | Киреев В. Ю., Столяров А. А. |
---|---|
Médium: | Kniha |
Vydáno: |
НБ СевКавГТУ
|
Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
|
Podobné jednotky
-
Химическое осаждение из растворов
Autor: Вассерман И. М. -
Рост алмаза и графита из газовой фазы
Autor: Дерягин Б. В., a další -
Получение покрытий. Методы физического и химического осаждения из газовой фазы учебное пособие
Autor: Чернышова О. В.
Vydáno: (2023) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
Autor: Алтахов, А. С.
Vydáno: (2018) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
Autor: Алтахов, А. С.
Vydáno: (2018)