Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Guardado en:
Autores principales: | Киреев В. Ю., Столяров А. А. |
---|---|
Formato: | Libro |
Publicado: |
НБ СевКавГТУ
|
Etiquetas: |
Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!
|
Ejemplares similares
-
Химическое осаждение из растворов
por: Вассерман И. М. -
Рост алмаза и графита из газовой фазы
por: Дерягин Б. В., et al. -
Получение покрытий. Методы физического и химического осаждения из газовой фазы учебное пособие
por: Чернышова О. В.
Publicado: (2023) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
por: Алтахов, А. С.
Publicado: (2018) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
por: Алтахов, А. С.
Publicado: (2018)