Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Tallennettuna:
Päätekijät: | Киреев В. Ю., Столяров А. А. |
---|---|
Aineistotyyppi: | Kirja |
Julkaistu: |
НБ СевКавГТУ
|
Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
Samankaltaisia teoksia
-
Химическое осаждение из растворов
Tekijä: Вассерман И. М. -
Рост алмаза и графита из газовой фазы
Tekijä: Дерягин Б. В., et al. -
Получение покрытий. Методы физического и химического осаждения из газовой фазы учебное пособие
Tekijä: Чернышова О. В.
Julkaistu: (2023) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
Tekijä: Алтахов, А. С.
Julkaistu: (2018) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
Tekijä: Алтахов, А. С.
Julkaistu: (2018)