Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
保存先:
主要な著者: | Киреев В. Ю., Столяров А. А. |
---|---|
フォーマット: | 図書 |
出版事項: |
НБ СевКавГТУ
|
タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|
類似資料
-
Химическое осаждение из растворов
著者:: Вассерман И. М. -
Рост алмаза и графита из газовой фазы
著者:: Дерягин Б. В., 等 -
Получение покрытий. Методы физического и химического осаждения из газовой фазы учебное пособие
著者:: Чернышова О. В.
出版事項: (2023) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
著者:: Алтахов, А. С.
出版事項: (2018) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
著者:: Алтахов, А. С.
出版事項: (2018)