Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
Сохранить в:
| Hovedforfatter: | |
|---|---|
| Format: | Книга |
| Fag: | |
| Online adgang: | Перейти к просмотру издания |
| Tags: |
Tilføj Tag
Ingen Tags, Vær først til at tagge denne postø!
|