Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,...
保存先:
| 第一著者: | |
|---|---|
| フォーマット: | Книга |
| 主題: | |
| オンライン･アクセス: | Перейти к просмотру издания |
| タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|