Synthesis of titanium dioxide thin films via thermo- and plasma-enhanced atomic layer deposition
Titanium dioxide thin films were deposited onto single-crystalline silicon wafers using thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition (TALD and PEALD) techniques. The TiO2 films were subjected to investigation via ellipsometry, X-ray diffraction, Raman spectroscopy, and the use of scanning ele...
Αποθηκεύτηκε σε:
| Κύριοι συγγραφείς: | , , , , , |
|---|---|
| Μορφή: | Статья |
| Γλώσσα: | English |
| Έκδοση: |
Elsevier B.V.
2024
|
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | https://dspace.ncfu.ru/handle/123456789/28754 |
| Ετικέτες: |
Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|