Synthesis of titanium dioxide thin films via thermo- and plasma-enhanced atomic layer deposition
Titanium dioxide thin films were deposited onto single-crystalline silicon wafers using thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition (TALD and PEALD) techniques. The TiO2 films were subjected to investigation via ellipsometry, X-ray diffraction, Raman spectroscopy, and the use of scanning ele...
Збережено в:
| Автори: | , , , , , |
|---|---|
| Формат: | Статья |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Elsevier B.V.
2024
|
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | https://dspace.ncfu.ru/handle/123456789/28754 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|