Synthesis of titanium dioxide thin films via thermo- and plasma-enhanced atomic layer deposition
Titanium dioxide thin films were deposited onto single-crystalline silicon wafers using thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition (TALD and PEALD) techniques. The TiO2 films were subjected to investigation via ellipsometry, X-ray diffraction, Raman spectroscopy, and the use of scanning ele...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Статья |
| Ngôn ngữ: | English |
| Được phát hành: |
Elsevier B.V.
2024
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://dspace.ncfu.ru/handle/123456789/28754 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|