INVESTIGATION OF POSSIBILITY OF THE MISFIT DISLOCATION DENSITY REDUCTION IN GE/SI FILMS WITH A BUFFER LAYER
В работе исследована возможность улучшения качества гетероэпитаксиальных структур Ge/Si с буферным слоем. Показано, что при использовании подготовительного слоя, состоящего из наноостровков, зарощенных низкотемпературным буферным слоем, возможно проявление так называемого эффекта аннигиляции дислок...
Сохранить в:
| Главные авторы: | , , , , , , , |
|---|---|
| Формат: | Статья |
| Язык: | Russian |
| Опубликовано: |
Tver State University
2024
|
| Темы: | |
| Online-ссылка: | https://dspace.ncfu.ru/handle/123456789/29291 |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
