Influence of coating thickness on the microstructure, composition and optical properties of aluminum nitride thin films grown on silicon substrates via low-temperature PEALD
Within the framework of the study, fine-grained nanocrystalline aluminum nitride films were obtained using the PEALD method at the temperature of 250 degrees C and the number of deposition cycles from 80 to 500 on single-crystal silicon substrates. Low-temperature synthesis processes were carried ou...
সংরক্ষণ করুন:
প্রধান লেখক: | , , , , , , , |
---|---|
বিন্যাস: | Статья |
ভাষা: | English |
প্রকাশিত: |
Elsevier Ltd
2021
|
বিষয়গুলি: | |
অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/18458 |
ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|