Influence of coating thickness on the microstructure, composition and optical properties of aluminum nitride thin films grown on silicon substrates via low-temperature PEALD
Within the framework of the study, fine-grained nanocrystalline aluminum nitride films were obtained using the PEALD method at the temperature of 250 degrees C and the number of deposition cycles from 80 to 500 on single-crystal silicon substrates. Low-temperature synthesis processes were carried ou...
Պահպանված է:
| Հիմնական հեղինակներ: | , , , , , , , |
|---|---|
| Ձևաչափ: | Статья |
| Լեզու: | English |
| Հրապարակվել է: |
Elsevier Ltd
2021
|
| Խորագրեր: | |
| Առցանց հասանելիություն: | https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/18458 |
| Ցուցիչներ: |
Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|