Influence of coating thickness on the microstructure, composition and optical properties of aluminum nitride thin films grown on silicon substrates via low-temperature PEALD
Within the framework of the study, fine-grained nanocrystalline aluminum nitride films were obtained using the PEALD method at the temperature of 250 degrees C and the number of deposition cycles from 80 to 500 on single-crystal silicon substrates. Low-temperature synthesis processes were carried ou...
Zapisane w:
| Główni autorzy: | , , , , , , , |
|---|---|
| Format: | Статья |
| Język: | English |
| Wydane: |
Elsevier Ltd
2021
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/18458 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|