Influence of coating thickness on the microstructure, composition and optical properties of aluminum nitride thin films grown on silicon substrates via low-temperature PEALD
Within the framework of the study, fine-grained nanocrystalline aluminum nitride films were obtained using the PEALD method at the temperature of 250 degrees C and the number of deposition cycles from 80 to 500 on single-crystal silicon substrates. Low-temperature synthesis processes were carried ou...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , , , , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Статья |
| Ngôn ngữ: | English |
| Được phát hành: |
Elsevier Ltd
2021
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/18458 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|