Effect of nitrogen pressure on the composition and structure of thin films GaAs1 - x - yNxBiy
Thin films of GaAs1 - x - y NxBiy were deposited on a GaAs (100) substrate by pulsed laser deposition using an argon-nitrogen gas mixture at a pressure ranging from 1 to 60 Pa. The film thickness is found to decrease from 527 to 127 nm as the pressure of the argon-nitrogen gas mixture increased from...
שמור ב:
| Главные авторы: | , |
|---|---|
| פורמט: | Статья |
| שפה: | English |
| יצא לאור: |
2024
|
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/26523 |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|