বিষয়বস্তু এড়িয়ে যান
Pulsed magnetron sputtering and ion-induced annealing of carbon films

Pulsed magnetron sputtering and ion-induced annealing of carbon films

Thin carbon films are deposited on a silicon substrate at room temperatures via the biased pulsed magnetron sputtering of graphite in the physical (Ar, Kr, Xe) and reactive (Ar: CH4) modes at a different sputtering power density varying from 40 to 550 W/cm2. To ensure ion-assistance, negative bias o...

সম্পূর্ণ বিবরণ

সংরক্ষণ করুন:
গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
প্রধান লেখক: Shevchenko, E. F., Шевченко, Е. Ф., Sysoev, I. A., Сысоев, И. А.
বিন্যাস: Статья
ভাষা:English
প্রকাশিত: Maik Nauka-Interperiodica Publishing 2018
বিষয়গুলি:
AFM
Beam lithography
Carbon film
Film deposition
Ion annealing
Magnetron sputtering
Raman spectra
Surface resistance
অনলাইন ব্যবহার করুন:https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85017962362&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&nlo=1&nlr=20&nls=afprfnm-t&affilName=north+caucasus+federal+university&sid=966542d8105467f94fc40da257ddfff6&sot=afnl&sdt=sisr&sl=53&s=%28AF-ID%28%22North+Caucasus+Federal+University%22+60070541%29%29&ref=%28Pulsed+magnetron+sputtering+and+ion-induced+annealing+of+carbon+films%29&relpos=0&citeCnt=0&searchTerm=
https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/3038
ট্যাগগুলো: ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!

আন্তর্জাল

https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85017962362&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&nlo=1&nlr=20&nls=afprfnm-t&affilName=north+caucasus+federal+university&sid=966542d8105467f94fc40da257ddfff6&sot=afnl&sdt=sisr&sl=53&s=%28AF-ID%28%22North+Caucasus+Federal+University%22+60070541%29%29&ref=%28Pulsed+magnetron+sputtering+and+ion-induced+annealing+of+carbon+films%29&relpos=0&citeCnt=0&searchTerm=
https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/3038

অনুরূপ উপাদানগুলি