Chuyển đến nội dung

Calculation of the Schottky barrier and current–voltage characteristics of metal–alloy structures based on silicon carbide

A simple but nonlinear model of the defect density at a metal–semiconductor interface, when a Schottky barrier is formed by surface defects states localized at the interface, is developed. It is shown that taking the nonlinear dependence of the Fermi level on the defect density into account leads to...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Altukhov, V. I., Алтухов, В. И., Kasyanenko, I. S., Касьяненко, И. С., Sankin, A. V., Санкин, А. В.
Định dạng: Статья
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: Maik Nauka-Interperiodica Publishing 2018
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-84986192894&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&nlo=1&nlr=20&nls=afprfnm-t&affilName=North+caucasus+federal+university&sid=1e7600f256f2f6c480679cbfff85823c&sot=afnl&sdt=sisr&cluster=scopubyr%2c%222016%22%2ct&sl=53&s=%28AF-ID%28%22North+Caucasus+Federal+University%22+60070541%29%29&ref=%28Calculation+of+the+Schottky+barrier+and+current%E2%80%93voltage+characteristics+of+metal%E2%80%93alloy+structures+based+on+silicon+carbide%29&relpos=0&citeCnt=1&searchTerm=
https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/3404
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!