Անցեք բովանդակությանը
Calculation of the Schottky barrier height at the contact between a metal and (SiC)1–x(AlN)x semiconductor solid solution

Calculation of the Schottky barrier height at the contact between a metal and (SiC)1–x(AlN)x semiconductor solid solution

A simple model of the metal–semiconductor contact that is nonlinear in the concentration of defects when the Schottky barrier is formed by the surface defect states Ei localized at the interface has been proposed. It has been shown that taking into account the nonlinear dependence of the Fermi energ...

Ամբողջական նկարագրություն

Պահպանված է:
Մատենագիտական մանրամասներ
Հիմնական հեղինակներ: Altukhov, V. I., Алтухов, В. И., Kasyanenko, I. S., Касьяненко, И. С., Sankin, A. V., Санкин, А. В.
Ձևաչափ: Статья
Լեզու:English
Հրապարակվել է: Maik Nauka Publishing / Springer SBM 2018
Խորագրեր:
Current voltage characteristics
Interface states
Semiconductor metal boundaries
Silicon carbide
Surface defects
Schottky barrier diodes
Առցանց հասանելիություն:https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-84946115090&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&nlo=1&nlr=20&nls=afprfnm-t&affilName=north+caucasus+federal+university&sid=dc7f8c6f40c1112203ece798567bdeb2&sot=afnl&sdt=cl&cluster=scopubyr%2c%222015%22%2ct&sl=53&s=%28AF-ID%28%22North+Caucasus+Federal+University%22+60070541%29%29&relpos=8&citeCnt=0&searchTerm=
https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/3689
Ցուցիչներ: Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!

Համացանց

https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-84946115090&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&nlo=1&nlr=20&nls=afprfnm-t&affilName=north+caucasus+federal+university&sid=dc7f8c6f40c1112203ece798567bdeb2&sot=afnl&sdt=cl&cluster=scopubyr%2c%222015%22%2ct&sl=53&s=%28AF-ID%28%22North+Caucasus+Federal+University%22+60070541%29%29&relpos=8&citeCnt=0&searchTerm=
https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/3689

Նմանատիպ նյութեր