Growth of aluminum nitride films by plasma-enhanced atomic layer deposition
Aluminum nitride films have been grown by plasma-enhanced atomic layer deposition under self-limiting growth and CVD-like conditions. The films have been characterized by IR spectroscopy, ellipsometry, and Auger exposure spectroscopy. We have examined the influence of the deposition temperature, the...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | , , , , , , , , , , , |
|---|---|
| বিন্যাস: | Статья |
| ভাষা: | English |
| প্রকাশিত: |
Maik Nauka Publishing / Springer SBM
2018
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-84934342777&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&nlo=1&nlr=20&nls=afprfnm-t&affilName=north+caucasus+federal+university&sid=fe656e0c7517dbc25228b3d577bd000c&sot=afnl&sdt=cl&cluster=scopubyr%2c%222015%22%2ct&sl=53&s=%28AF-ID%28%22North+Caucasus+Federal+University%22+60070541%29%29&relpos=26&citeCnt=1&searchTerm= https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/3713 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|