Chuyển đến nội dung

Growth of aluminum nitride films by plasma-enhanced atomic layer deposition

Aluminum nitride films have been grown by plasma-enhanced atomic layer deposition under self-limiting growth and CVD-like conditions. The films have been characterized by IR spectroscopy, ellipsometry, and Auger exposure spectroscopy. We have examined the influence of the deposition temperature, the...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Tarala, V. A., Тарала, В. А., Altakhov, A. S., Алтахов, А. С., Shevchenko, M. Y., Шевченко, М. Ю., Valyukhov, D. P., Валюхов, Д. П., Lisitsyn, S. V., Лисицын, С. В., Martens, V. Y., Мартенс, В. Я.
Định dạng: Статья
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: Maik Nauka Publishing / Springer SBM 2018
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-84934342777&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&nlo=1&nlr=20&nls=afprfnm-t&affilName=north+caucasus+federal+university&sid=fe656e0c7517dbc25228b3d577bd000c&sot=afnl&sdt=cl&cluster=scopubyr%2c%222015%22%2ct&sl=53&s=%28AF-ID%28%22North+Caucasus+Federal+University%22+60070541%29%29&relpos=26&citeCnt=1&searchTerm=
https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/3713
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!

Những quyển sách tương tự