Метод сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии кремния с газовым источником германия практикум
Целью данной работы является ознакомление с особенностями выращивания эпитаксиальных слоев кремния, кремний-германия методом молекулярно-лучевой эпитаксии с сублимационным источником кремния и газовым источником германия, а также знакомство с вакуумным технологическим оборудованием. Рассматривается...
Tallennettuna:
| Aineistotyyppi: | Книга |
|---|---|
| Kieli: | Russian |
| Julkaistu: |
Нижний Новгород
ННГУ им. Н. И. Лобачевского
2015
|
| Linkit: | https://e.lanbook.com/book/153137 https://e.lanbook.com/img/cover/book/153137.jpg |
| Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
| Yhteenveto: | Целью данной работы является ознакомление с особенностями выращивания эпитаксиальных слоев кремния, кремний-германия методом молекулярно-лучевой эпитаксии с сублимационным источником кремния и газовым источником германия, а также знакомство с вакуумным технологическим оборудованием. Рассматривается влияние основных условий роста и технологических параметров на качество эпитаксиальных слоев. Приводится сравнение данного метода с другими методами выращивания эпитаксиальных слоев кремния и германия (газофазная эпитаксия и молекулярно-лучевая эпитаксия с испарением электронным лучом). Практикум предназначен для магистров физического факультета ННГУ, обучающихся по направлению 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника», 03.04.02 «Физика». |
|---|---|
| Huomautukset: | Рекомендовано методической комиссией физического факультета для студентов ННГУ, обучающихся по направлениям подготовки 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника», 03.04.02 «Физика» |
| Ulkoasu: | 13 с. |
| Yleisö: | Книга из коллекции ННГУ им. Н. И. Лобачевского - Инженерно-технические науки |
| Bibliografia: | Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань |