Метод сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии кремния с газовым источником германия практикум
Целью данной работы является ознакомление с особенностями выращивания эпитаксиальных слоев кремния, кремний-германия методом молекулярно-лучевой эпитаксии с сублимационным источником кремния и газовым источником германия, а также знакомство с вакуумным технологическим оборудованием. Рассматривается...
保存先:
| フォーマット: | Книга |
|---|---|
| 言語: | Russian |
| 出版事項: |
Нижний Новгород
ННГУ им. Н. И. Лобачевского
2015
|
| オンライン･アクセス: | https://e.lanbook.com/book/153137 https://e.lanbook.com/img/cover/book/153137.jpg |
| タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|
| 要約: | Целью данной работы является ознакомление с особенностями выращивания эпитаксиальных слоев кремния, кремний-германия методом молекулярно-лучевой эпитаксии с сублимационным источником кремния и газовым источником германия, а также знакомство с вакуумным технологическим оборудованием. Рассматривается влияние основных условий роста и технологических параметров на качество эпитаксиальных слоев. Приводится сравнение данного метода с другими методами выращивания эпитаксиальных слоев кремния и германия (газофазная эпитаксия и молекулярно-лучевая эпитаксия с испарением электронным лучом). Практикум предназначен для магистров физического факультета ННГУ, обучающихся по направлению 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника», 03.04.02 «Физика». |
|---|---|
| 記述事項: | Рекомендовано методической комиссией физического факультета для студентов ННГУ, обучающихся по направлениям подготовки 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника», 03.04.02 «Физика» |
| 物理的記述: | 13 с. |
| Audience: | Книга из коллекции ННГУ им. Н. И. Лобачевского - Инженерно-технические науки |
| 書誌: | Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань |