Przejdź do treści

Метод сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии кремния с газовым источником германия практикум

Целью данной работы является ознакомление с особенностями выращивания эпитаксиальных слоев кремния, кремний-германия методом молекулярно-лучевой эпитаксии с сублимационным источником кремния и газовым источником германия, а также знакомство с вакуумным технологическим оборудованием. Рассматривается...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Format: Книга
Język:Russian
Wydane: Нижний Новгород ННГУ им. Н. И. Лобачевского 2015
Dostęp online:https://e.lanbook.com/book/153137
https://e.lanbook.com/img/cover/book/153137.jpg
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
Opis
Streszczenie:Целью данной работы является ознакомление с особенностями выращивания эпитаксиальных слоев кремния, кремний-германия методом молекулярно-лучевой эпитаксии с сублимационным источником кремния и газовым источником германия, а также знакомство с вакуумным технологическим оборудованием. Рассматривается влияние основных условий роста и технологических параметров на качество эпитаксиальных слоев. Приводится сравнение данного метода с другими методами выращивания эпитаксиальных слоев кремния и германия (газофазная эпитаксия и молекулярно-лучевая эпитаксия с испарением электронным лучом). Практикум предназначен для магистров физического факультета ННГУ, обучающихся по направлению 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника», 03.04.02 «Физика».
Deskrypcja:Рекомендовано методической комиссией физического факультета для студентов ННГУ, обучающихся по направлениям подготовки 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника», 03.04.02 «Физика»
Opis fizyczny:13 с.
Publiczność:Книга из коллекции ННГУ им. Н. И. Лобачевского - Инженерно-технические науки
Bibliografia:Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань