Anar al contingut

Особенности радикального травления полупроводниковых материалов в галогенсодержащей плазме учебно-методическое пособие для вузов Ч. 2 Особенности радикального травления полупроводниковых материалов в галогенсодержащей плазме : учебно-методическое пособие для вузов

Учебно-методическое пособие подготовлено на кафедре физики полупроводников и микроэлектроники физического факультета Воронежского государственного университета. Рекомендуется для студентов 3-го курса дневного отделения физического факультета, обучающихся по программе подготовки бакалавров....

Descripció completa

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Format: Книга
Idioma:Russian
Publicat: Воронеж ВГУ 2014
Accés en línia:https://e.lanbook.com/book/357419
https://e.lanbook.com/img/cover/book/357419.jpg
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!