Salta al contenuto

Особенности радикального травления полупроводниковых материалов в галогенсодержащей плазме учебно-методическое пособие для вузов Ч. 2 Особенности радикального травления полупроводниковых материалов в галогенсодержащей плазме : учебно-методическое пособие для вузов

Учебно-методическое пособие подготовлено на кафедре физики полупроводников и микроэлектроники физического факультета Воронежского государственного университета. Рекомендуется для студентов 3-го курса дневного отделения физического факультета, обучающихся по программе подготовки бакалавров....

Descrizione completa

Salvato in:
Dettagli Bibliografici
Natura: Книга
Lingua:Russian
Pubblicazione: Воронеж ВГУ 2014
Accesso online:https://e.lanbook.com/book/357419
https://e.lanbook.com/img/cover/book/357419.jpg
Tags: Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne! !