Методы и возможности in-line контроля тонкопленочных материалов в производстве субмикронных интегральных микросхем учебное пособие
Пособие составлено на базе 40-летнего личного опыта работы автора на отечественных и зарубежных предприятиях микроэлектронной отрасли. Рассмотрена совокупность вопросов организации и использования в серийном производстве субмикронных интегральных микросхем (ИМС) методов непосредственного производств...
Сохранить в:
| Главный автор: | |
|---|---|
| Формат: | Книга |
| Язык: | Russian |
| Опубликовано: |
Новосибирск
НГТУ
2023
|
| Online-ссылка: | https://e.lanbook.com/book/404429 https://e.lanbook.com/img/cover/book/404429.jpg |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
| LEADER | 04730nam0a2200277 i 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 404429 | ||
| 003 | RuSpLAN | ||
| 005 | 20240419155531.0 | ||
| 008 | 240419s2023 ru gs 000 0 rus | ||
| 020 | |a 978-5-7782-4926-4 | ||
| 040 | |a RuSpLAN | ||
| 041 | 0 | |a rus | |
| 044 | |a ru | ||
| 080 | |a 621.38.049.77:539.23(075.8) | ||
| 245 | 0 | 0 | |a Методы и возможности in-line контроля тонкопленочных материалов в производстве субмикронных интегральных микросхем |b учебное пособие |c Васильев В. Ю. |
| 260 | |a Новосибирск |b НГТУ |c 2023 | ||
| 300 | |a 128 с. | ||
| 500 | |a Утверждено Редакционно-издательским советом университета в качестве учебного пособия | ||
| 504 | |a Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань | ||
| 520 | 8 | |a Пособие составлено на базе 40-летнего личного опыта работы автора на отечественных и зарубежных предприятиях микроэлектронной отрасли. Рассмотрена совокупность вопросов организации и использования в серийном производстве субмикронных интегральных микросхем (ИМС) методов непосредственного производственного (in-line) контроля тонкопленочных материалов – основы современных ИМС. Приведены примеры приборов контроля и возможностей их применения для характеризации процессов получения и свойств тонких пленок. Рассмотрены решения технологических задач с помощью in-line методов на примере важнейшего узла ИМС – диэлектрической планаризируемой изоляции между транзисторным уровнем (FEOL) и первым уровнем металлизации (BEOL) микросхем. Проанализирован подход к квалификации технологических процессов/оборудования для создания тонких пленок в производстве, изложены примеры проведения исследований технологической направленности. Показаны необходимость и возможности использования вместе с in-line методами также методов контроля at-line (в лабораториях вне производства) и off-line (в специализированных аналитических организациях). В пособии использованы и пояснены многочисленные англоязычные термины, принятые в технологиях и производстве интегральных микросхем. Материал пособия может быть рекомендован для обучения бакалавров и магистрантов по направлениям 11.03.04 и 11.04.04 («Электроника и наноэлектроника»), 28.03.01 и 28.04.01 («Нанотехнологии и микросистемная техника») в рамках семинаров по специальностям и по дисциплинам, связанным с преподаванием физико-химических основ технологических процессов изделий микроэлектроники, микросистемной техники, наноэлектроники. Рекомендуется для магистрантов и аспирантов по специальности 11.06.01 «Электроника, радиотехника и системы связи», а также для технологов производства ИМС, исследователей в области нанотехнологий. | |
| 521 | 8 | |a Книга из коллекции НГТУ - Инженерно-технические науки | |
| 521 | 8 | |a СЭБ | |
| 100 | 1 | |a Васильев В. Ю. | |
| 856 | 4 | |u https://e.lanbook.com/book/404429 | |
| 856 | 4 | 8 | |u https://e.lanbook.com/img/cover/book/404429.jpg |
| 953 | |a https://e.lanbook.com/img/cover/book/404429.jpg | ||