Пропуск в контексте

Моделирование технологии и параметров кремниевых наноразмерных транзисторных структур учебное пособие для вузов

Составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплине «Наноэлектронная технология». Изложены основные темы учебного материала, входящего в лекционный курс. А именно: рассмотрены вопросы математического моделирования процессов ионного внедрения примесей в кремний с испо...

全面介绍

Сохранить в:
书目详细资料
主要作者: Воронов Ю. А.
其他作者: Касков С. Ю., Мочалкина О. Р.
格式: Книга
语言:Russian
出版: Москва НИЯУ МИФИ 2012
在线阅读:http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=75726
https://e.lanbook.com/img/cover/book/75726.jpg
标签: 添加标签
没有标签, 成为第一个标记此记录!
实物特征
总结:Составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплине «Наноэлектронная технология». Изложены основные темы учебного материала, входящего в лекционный курс. А именно: рассмотрены вопросы математического моделирования процессов ионного внедрения примесей в кремний с использованием как «ручного» так и программного моделирования с помощью универсальной программы технологического моделирования T-CAD фирмы Synopsys. Представлены основные принципы работы с программой, включая списки команд, обеспечивающих моделирование технологии, электрофизических и электрических характеристик классического МДП-транзис-тора. Рассмотрены результаты моделирования наноразмерных МДП-транзисторов. Методика изложения материала позволяет студентам узнать теоретические вопросы и практически освоить основы программы T-CAD. Это первое учебное пособие по программе T-CAD на русском языке. Предназначено для студентов направлений подготовки по электронике.
Item Description:Рекомендовано УМО «Ядерные физика и технологии» в качестве учебного пособия для студентов высших учебных заведений
实物描述:80 с.
读者:Книга из коллекции НИЯУ МИФИ - Инженерно-технические науки
参考书目:Библиогр.: доступна в карточке книги, на сайте ЭБС Лань
ISBN:978-5-7262-1730-7