Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
Պահպանված է:
Հիմնական հեղինակ: | Кузнецова, Е. А. |
---|---|
Ձևաչափ: | ВКР |
Լեզու: | Russian |
Հրապարակվել է: |
2018
|
Առցանց հասանելիություն: | https://dspace.ncfu.ru:443/handle/20.500.12258/2328 |
Ցուցիչներ: |
Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|
Նմանատիպ նյութեր
-
Исследование наноразмерных пленок AlN методом АСМ
: Кузнецова, Е. А.
Հրապարակվել է: (2018) -
Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrate
: Devitsky, O. V., և այլն
Հրապարակվել է: (2020) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
: Tarala, V. A., և այլն
Հրապարակվել է: (2018) -
Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer deposition
: Tarala, V. A., և այլն
Հրապարակվել է: (2018) -
Schotky barrier height and calculation of voltage–current characteristics of Al/n-(SiC)1–x(AlN)x diodes And 4H–SiC heterojunctions
: Altukhov, V. I., և այլն
Հրապարակվել է: (2020)