Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Uloženo v:
| Hlavní autoři: | , |
|---|---|
| Médium: | Kniha |
| Vydáno: |
НБ СевКавГТУ
|
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
|
| Shrnutí: | Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. |
|---|