Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Αποθηκεύτηκε σε:
Κύριοι συγγραφείς: | Киреев В. Ю., Столяров А. А. |
---|---|
Μορφή: | Βιβλίο |
Έκδοση: |
НБ СевКавГТУ
|
Ετικέτες: |
Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|
Παρόμοια τεκμήρια
-
Химическое осаждение из растворов
ανά: Вассерман И. М. -
Рост алмаза и графита из газовой фазы
ανά: Дерягин Б. В., κ.ά. -
Получение покрытий. Методы физического и химического осаждения из газовой фазы учебное пособие
ανά: Чернышова О. В.
Έκδοση: (2023) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
ανά: Алтахов, А. С.
Έκδοση: (2018) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
ανά: Алтахов, А. С.
Έκδοση: (2018)