Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Salvato in:
Autori principali: | Киреев В. Ю., Столяров А. А. |
---|---|
Natura: | Libro |
Pubblicazione: |
НБ СевКавГТУ
|
Tags: |
Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne! !
|
Documenti analoghi
-
Химическое осаждение из растворов
di: Вассерман И. М. -
Рост алмаза и графита из газовой фазы
di: Дерягин Б. В., et al. -
Получение покрытий. Методы физического и химического осаждения из газовой фазы учебное пособие
di: Чернышова О. В.
Pubblicazione: (2023) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
di: Алтахов, А. С.
Pubblicazione: (2018) -
Получение и исследование свойств пластин поликристаллического алмаза, полученных методом химического осаждения из газовой фазы
di: Алтахов, А. С.
Pubblicazione: (2018)