Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
保存先:
| 主要な著者: | , |
|---|---|
| フォーマット: | 図書 |
| 出版事項: |
НБ СевКавГТУ
|
| タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|