Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Приведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития....
Сохранить в:
| Главные авторы: | , |
|---|---|
| 格式: | 圖書 |
| 出版: |
НБ СевКавГТУ
|
| 標簽: |
添加標簽
沒有標簽, 成為第一個標記此記錄!
|