Synthesis of titanium dioxide thin films via thermo- and plasma-enhanced atomic layer deposition
Titanium dioxide thin films were deposited onto single-crystalline silicon wafers using thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition (TALD and PEALD) techniques. The TiO2 films were subjected to investigation via ellipsometry, X-ray diffraction, Raman spectroscopy, and the use of scanning ele...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
|---|---|
| التنسيق: | Статья |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
Elsevier B.V.
2024
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://dspace.ncfu.ru/handle/123456789/28754 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|