INVESTIGATION OF POSSIBILITY OF THE MISFIT DISLOCATION DENSITY REDUCTION IN GE/SI FILMS WITH A BUFFER LAYER
В работе исследована возможность улучшения качества гетероэпитаксиальных структур Ge/Si с буферным слоем. Показано, что при использовании подготовительного слоя, состоящего из наноостровков, зарощенных низкотемпературным буферным слоем, возможно проявление так называемого эффекта аннигиляции дислок...
Enregistré dans:
| Auteurs principaux: | , , , , , , , |
|---|---|
| Format: | Статья |
| Langue: | Russian |
| Publié: |
Tver State University
2024
|
| Sujets: | |
| Accès en ligne: | https://dspace.ncfu.ru/handle/123456789/29291 |
| Tags: |
Ajouter un tag
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|