Przejdź do treści

Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrate

Thin aluminum nitride (AlN) films on sapphire (Al2O3) substrates were grown by means of ion-beam deposition (IBD) and studied by methods of scanning electron microscopy, Raman scattering, and optical transmission spectroscopy. Results revealed the influence of IBD process parameters (gas mixture com...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Devitsky, O. V., Девицкий, О. В., Sysoev, I. A., Сысоев, И. А., Kasyanov, I. V., Касьянов, И. В., Nikulin, D. A., Никулин, Д. А.
Format: Статья
Język:English
Wydane: MAIK NAUKA/INTERPERIODICA/SPRINGER 2020
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:http://apps.webofknowledge.com/full_record.do?product=WOS&search_mode=GeneralSearch&qid=17&SID=E1foOAlVMmMF3jxHUZa&page=1&doc=1
https://dspace.ncfu.ru/handle/20.500.12258/11480
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!